半导体膜厚测试仪是一款精准又好用的薄膜厚度测量设备。它能测低至20纳米的超薄薄膜，测量误差小于1纳米，最快每秒可测100次，重复测量精度高达0.05纳米。具有强抗干扰性，高灵敏度元器件搭配抗干扰光学系统+多参数反演算法，复杂环境下测量稳定，灵活易适配，支持自定义膜结构测量，设备小巧易安装，配套软件及二次开发包，适配实验室/产线多场景。

反射式光学膜厚仪具有强抗干扰性，高灵敏度元器件搭配抗干扰光学系统+多参数反演算法，复杂环境下测量稳定，灵活易适配，支持自定义膜结构测量，设备小巧易安装，配套软件及二次开发包，适配实验室/产线多场景。

非接触式膜厚测量仪精准测量，支持20nm超薄膜厚检测，准确度±1nm、重复精度0.05nm，满足精密检测需求，高速采样，最高采样速度100Hz，适配产线快速检测，提升测量效率，宽光谱覆盖，采用氘卤组合光源，光谱覆盖紫外至近红外，可解析单层/多层膜厚。

光学膜厚仪广泛应用于半导体与微电子制造、显示面板、光学器件制造、生物医学、汽车及新材料与新能源研发等领域，能满足从晶圆镀膜、显示面板薄膜到光学元件镀膜、医用植入物涂层、汽车玻璃膜层及新能源薄膜的高精度厚度检测需求，助力各行业提升产品质量与研发效率。

反射膜厚测量仪广泛应用于半导体与微电子制造、显示面板、光学器件制造、生物医学、汽车及新材料与新能源研发等领域，能满足从晶圆镀膜、显示面板薄膜到光学元件镀膜、医用植入物涂层、汽车玻璃膜层及新能源薄膜的高精度厚度检测需求，助力各行业提升产品质量与研发效率。

反射膜厚仪是一款精准又好用的薄膜厚度测量设备。它能测低至20纳米的超薄薄膜，测量误差小于1纳米，最快每秒可测100次，重复测量精度高达0.05纳米。它采用双光源组合，覆盖紫外到红外全光谱，抗干扰能力强，在振动或复杂环境下也能稳定工作。